序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 刻蚀终点探测器 | 12台 | 1)刻蚀终点侦测器主要用于G6 OLED干刻工艺,包含栅极层、主动层、源极/汲极层、介电层、钝化缓冲层等; 2)2台主机,10个刻蚀终点侦测器; 3)设备的尺寸:<500mm(长)× 500mm(宽)× 300mm(高)。 | 0730-254010020003-77 |
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